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靶標是用于測試光電成像系統時(shí)創(chuàng )建參考圖像的模塊。Inframet提供的靶標可分為兩類(lèi):1)無(wú)源靶標，2)有源靶標。無(wú)源靶標需要由黑體或標定光源產(chǎn)生均勻光束照射，生成參考圖像模式的圖像。這些靶標通常是大型測試系統位于平行光管焦平面的小模塊。無(wú)源靶標的工作不需要電力供應。